Lugar de origem:
Dongguan, China
Marca:
SHENHUA
Certificação:
CE,UL
Número do modelo:
CMC-800
CMC-800Máquina de limpeza de wafer CMOS 1000 RPM centrífuga seca 2 fluido DI máquina de limpeza por spray de água é usado principalmente para limpar micro poeiras em produtos de módulo de câmera, como: Wafer, CMOS, Holder... etc.Usando nossa tecnologia de limpeza por spray de varredura de água DI, o CMC-800 lava muito pouco micro poeira e usando a tecnologia de secagem centrífuga de 1000 RPM, o CMC-800 pode secar rapidamente os produtos.
Características da máquina:
1. Especialmente projetado para limpar poeira em produtos de módulo de câmera.
2. Estrutura de aço inoxidável espelhada, adequada para sala limpa.
3. A placa limpa é feita especialmente de acordo com os produtos, a placa limpa pode ser trocada de acordo com os diferentes requisitos de limpeza dos produtos.
4. Controle PLC, operação fácil.
5. Porta frontal transparente à prova de explosão, operação segura, conveniente para observação.
6. Todas as máquinas exibidas por metros.O status da limpeza está sendo monitorado no momento.
7. 2 jatos limpos, alta precisão de limpeza, sem danos aos produtos, muito pouco consumo de água desionizada.
8. Gire as hastes de pulverização, sem poluição secundária.
9. Equipado com eliminador de estática, dispositivo de aquecimento de sala de limpeza, ajuda a alcançar o melhor resultado de limpeza.
10. Equipado com sistema de filtragem de ar de 2 níveis, o ar comprimido atende ao padrão ISO8573.1.
11. Máquina compacta, pegada menor.
12. Use água desionizada pura, em conformidade com o padrão RoHs.
Especificações da máquina:
Placa de limpeza | Feito sob medida (diâmetro da placa de limpeza <550mm) | |
método limpo | 2 fluxo limpo | |
método seco | Seco centrífugo de alta velocidade | |
Fonte de energia | AC380V 50HZ | |
Poder | 7KW | |
Consumo de energia | Potência de limpeza: 3,5kw/h | Potência em espera: 1kw/h |
Gire o poder | 3HP | |
Método de filtragem do ambiente | 0,3μm;99,999% | |
Método de filtragem de ar | 1μm×1;0,01μm×1 | |
Velocidade de rotação centrífuga | 100-1500RPM | |
pressão limpa | Pressão da água:3-8Kgf/cm² pressão do ar:0,2-0,5Mpa | |
abastecimento de água desionizada | Vazão:>7LPM Resistividade:>17MΩ | |
Consumo de ar | Pressão:0,45-0,7Mpa;vazão:>30m³/H(boa limpeza) | |
Diâmetro de entrada de água DI | Mangueira macia de ø12mm ou junta fêmea PT1/2″ | |
Diâmetro do suprimento de ar | mangueira de ø12mm | |
Diâmetro de saída de água | PT 1″junta fêmea | |
Diâmetro de saída de ar | 4″×2 (precisa de dispositivo de bombeamento de ar, velocidade do ar acima de 3m/seg) | |
Tamanho da máquina | 880mm(L)×960mm(L)×1880mm(A) | |
Peso da máquina | 450KG |
Imagem da máquina:
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